高濃度オゾン水洗浄装置
イオン注入後のレジスト剥離装置
レジスト剥離/AURORA（オーロラ）
硫酸、有機溶剤などの危険な化学薬品をなくすことが可能
硫酸がいらない
高ドーズイオン注入後のレジスト剥離が危険な薬品を使わずに処理が可能
ダメージ低減
従来のプラズマアッシャー（高パワー/オーバーアッシュ）によるウェハ表面へのダメージからレジスト表面の硬化層を低温＜60℃、低パワー＜200Wで処理するためウェハへのダメージを低減し、歩留まり改善へ
ランニングコストが従来の1/10以下
薬液の購入/保管/廃棄処理/メンテナンスが不要となるため処理（ランニング）コストを大幅に削減
製品情報
高濃度オゾン水洗浄装置｜AURORA（オーロラ）の基本情報
| 基本構成・性能 | フロントエンドモジュール（EFEM）：ウエハのロード/アンロード | |
| プラズマプロセスモジュール（PPM）：レジスト表面の硬化層を低温＜60℃、低パワー＜200Wで除去 | ||
| オゾン水プロセスモジュール（OPM）：レジストを「Rate＞4µm/min」で除去 | ||
| オゾン水生成モジュール（OGM）：高濃度のオゾン水を生成（8インチ用：5L/min、12インチ用：8L/min） | ||
| 加熱モジュール（HWM）：オゾン水を昇温するための加熱装置 | ||
| 装置仕様 | チャンバー数 | 2チャンバ（PPM＋OPM） |
| ウエハロ径 | 150/200/300mm対応 | |
| カセット数 | 2カセット | |
| 用力（8”用） | 電源 | 3相、200VAC、200A |
| 純水 | 0.1MPa、20L/min | |
| O2 | 0.5MPa、10L/min | |
| N2 | 0.7MPa、100L/min | |
| CO2 | 0.5MPa、1L/min | |
| CDA | 0.7MPa、800L/min | |
| 冷却水 | 0.3MPa、10L/min、16～20℃ | |
| 市水 | 0.1MPa、10L/min | |
