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超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、
洗浄する水蒸気2流体洗浄と超音波/高圧洗浄との除去率比較(有機EL)

水蒸気2流体洗浄と超音波・高圧洗浄の異物除去率の比較

異物除去率の比較(有機EL)

異物除去率の比較(有機EL)

有機EL用ガラス板洗浄での比較

有機ELの製造工程において、各薄膜上に付着した異物の除去率を測定、超音波+高圧洗浄との比較で圧倒的な差を確認したデータ。 異物の除去率は直接歩留まりに影響を及ぼします。

製品情報

蒸気2流体洗浄ユニット|SSCシリーズの基本情報

特長ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減
使用するのは「純水」のみ
化学薬品の使用量を大幅に削減
洗浄力を大幅に向上
半導体用洗浄にも使用
基本構成金属汚染のない蒸気発生装置
超音速蒸気噴射ノズル
洗浄機本体との通信
蒸気発生装置蒸気発生量:2~100kg/h
※必要な蒸気量に対応するサイズをご用意
用力:DIW,N2,CDA,200VACまたは100VAC
蒸気圧力制御範囲:0.05-0.3MPa
用途/実績例【用途】
・太陽電池の基板洗浄
・LED製造における金膜剥離
・半導体製造工程
・ガラス基板の洗浄等
・異物・ポリマー除去
・油脂、指紋など除去
・医療への応用
・美容への応用