超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、
洗浄する水蒸気2流体洗浄と超音波/高圧洗浄との除去率比較(有機EL)
水蒸気2流体洗浄と超音波・高圧洗浄の異物除去率の比較
異物除去率の比較(有機EL)
有機EL用ガラス板洗浄での比較
有機ELの製造工程において、各薄膜上に付着した異物の除去率を測定、超音波+高圧洗浄との比較で圧倒的な差を確認したデータ。 異物の除去率は直接歩留まりに影響を及ぼします。
製品情報
蒸気2流体洗浄ユニット|SSCシリーズの基本情報
特長 | ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 |
使用するのは「純水」のみ | |
化学薬品の使用量を大幅に削減 | |
洗浄力を大幅に向上 | |
半導体用洗浄にも使用 | |
基本構成 | 金属汚染のない蒸気発生装置 |
超音速蒸気噴射ノズル | |
洗浄機本体との通信 | |
蒸気発生装置 | 蒸気発生量:2~100kg/h ※必要な蒸気量に対応するサイズをご用意 |
用力:DIW,N2,CDA,200VACまたは100VAC | |
蒸気圧力制御範囲:0.05-0.3MPa | |
用途/実績例 | 【用途】 ・太陽電池の基板洗浄 ・LED製造における金膜剥離 ・半導体製造工程 ・ガラス基板の洗浄等 ・異物・ポリマー除去 ・油脂、指紋など除去 ・医療への応用 ・美容への応用 |